荷兰半导体装备巨头ASML近日公布于极紫外光（EUV）技能上取患上庞大进展，规划将光源功率从600W晋升至1000W。这一进级估计将使晶圆产能晋升约50%，而无需分外扩建无尘室或者增长整套装备。
按照ASML的最新陈诉，光源功率晋升后，晶圆的每一小时扫描产出将从220片增长至330片，且单元产出成本将连结稳定。这象征着于现有出产线及空间前提下，仅经由过程装备进级便可实现显著的产出增加，从而晋升晶圆厂的运营效率及本钱支出配置。
ASML的技能主管Michael Purvis夸大，这一1000W光源体系并不是短时间试验结果，而是颠末严酷测试，可以或许于客户的量产情况中不变运行的完备解决方案。他指出，该技能已经到达现实部署的尺度，而不单单是试验展示。
于实行计谋方面，ASML曾经向客户提供“出产力强化套件”（PEP），以便于不改换整机的环境下举行进级。然而，初期的NXE:3400C/D机型因热负载上限面对技能瓶颈，后续才慢慢引入更高功率的光源。是以，市场遍及认为这次进级方案将优先针对于较新的NXE:3800E系列和High-NA EUV机型EXE:5000与EXE:5200。
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